什么是X射線分析儀？
??X射線分析儀是一種根據(jù)物體受到X射線照射時(shí)的熒光X射線光譜來分析元素含量的裝置。
X射線分析儀用于材料的定性和定量分析，由于可以在不破壞樣品的情況下在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行檢查，因此被用作分析材料成分的方法。
X射線分析儀可以測量固體和液體，作為定性分析方法相對靈敏，使其成為高度可靠的檢測設(shè)備。
X射線分析儀的應(yīng)用
X射線分析儀可以以非破壞性的方式對固體或液體樣品進(jìn)行定性和定量分析。特別用于調(diào)查合金材料和土壤中有害金屬的存在和含量。
例如，X 射線分析在研究成分未知的材料（例如巖石和隕石）的成分時(shí)非常有效。最近，出于環(huán)境和安全原因，人們一直在推動(dòng)印刷線路無鹵素，為了確保這一點(diǎn)，需要使用 X 射線分析儀對印刷線路進(jìn)行分析。也可用于危險(xiǎn)化學(xué)物質(zhì)的定性和定量測定，以及RoHS指令規(guī)定物質(zhì)的測試。此外，現(xiàn)在出現(xiàn)了易于攜帶的便攜式設(shè)備，其用途正在擴(kuò)大。X射線分析儀用X射線照射物體并測量所發(fā)射的熒光X射線的波長（或能量）和強(qiáng)度。
當(dāng)物質(zhì)受到X射線照射時(shí)，其原子吸收能量，被激發(fā)，并發(fā)射熒光X射線。由于每種元素的熒光 X 射線的波長（或能量）都是唯一的，因此還可以根據(jù)檢測到的熒光 X 射線光譜的波長來識別物質(zhì)的類型，并根據(jù)其強(qiáng)度對其進(jìn)行量化。
X 射線分析儀由產(chǎn)生 X 射線的 X 射線源、容納樣品的樣品室以及對產(chǎn)生的熒光 X 射線進(jìn)行光譜檢測的檢測單元組成。
X射線源通過用施加高電壓產(chǎn)生的電子束照射諸如鎢之類的目標(biāo)來產(chǎn)生X射線。產(chǎn)生的 X 射線照射到樣品的頂面或底面。此時(shí)，您可以選擇樣品室中的氣氛，例如空氣、氮?dú)饣蛘婵铡?/font>
此外，如果使用帶有樣品觀察模式的X射線分析儀，您可以在觀察樣品的同時(shí)選擇照射位置。檢測器檢測來自樣品發(fā)射的元素的熒光 X 射線并進(jìn)行定性分析。在定量分析中，測量熒光X射線的強(qiáng)度，并使用校準(zhǔn)曲線和基本參數(shù)法（FP法）來確定含量。
X射線分析儀有兩種類型的光譜和檢測方法：波長色散和能量色散。能量色散 X 射線熒光光譜儀（縮寫：ED-XRF 或 EDX、EDS）是一種測量熒光 X 射線強(qiáng)度與其能量的關(guān)系的方法。
具體而言，入射到檢測器的熒光X射線被檢測器內(nèi)部的半導(dǎo)體轉(zhuǎn)換成脈沖電流并放大，然后根據(jù)每個(gè)脈沖的電流值測量波高。由于入射 X 射線的能量與電流值成正比，因此可以獲得熒光 X 射線能量與強(qiáng)度的關(guān)系圖。